Rutil sintetic

Rutil sintetic

Cu totii am auzit de incluziuni de rutil

in diverse minerale precum cuart sau in safirul stea (efectul de stea din safir, rubin sau granat este dat de firicele mici de rutil numite si silk inclusions).

Rutilul, o forma comuna de oxid de titaniu, se poate gasi si de sine statator (nu doar ca incluziuni in alte minerale), dar de regula un specimen intreg este destul de rar si considerat o piesa de colectie.

Rutilul se gaseste in natura intr-o gama de culori incepand cu incolor, galben, auriu, portocaliu pana la rosu intens, culoarea lui fiind data de cantitatea de fier din mineral.

Rutilul a fost primul simulant al diamantului, fiind mineralul cu cel mai ridicat indice de refractie (2.616-2.903 fata de cel al diamantului de 2.417-2.419). Acest lucru l-a facut sa se doreasca a fi sintetizat.

In 1948 s-a produs primul rutil sintetic aplicand un proces de Verneuil. Ulterior s-a dezvoltat procesul Becher prin care mineralul care contine dioxid de titaniu si oxid de fier este procesat astfel incat dispare oxidul de fier, rezultand un mineral in proportie de 90% TiO2. Multumita indecelui mare de refractie, gemele astfel formate aveau un luciu adamantin si aratau destul de mult cu un diamant. Majoritatea rutilului sintetic produs era incolor spre usor galbui. Titania a fost vandut in 1950 ca un simulat al diamantului. Din pacate, duritatea lui de doar 6-6.5 nu l-a tinut prea mult pe piata. In prezent sunt folosite alte minerale ca simulante pentru diamante (safir alb, cubic zirconia etc)

In industrie rutilul se foloseste ca pigment in vopseluri, mancare, hartie chiar si in farduri, pentru un efect de lucriu, sclipire. Datorita proprietatii sale de a absorbi lumina UV, rutilul se foloseste si in cremele solare. Datorita birefrigerentei mari si a dispersiei marite, este foarte folosit si in industria optica, mai exact in lentilele polarizate.

Depozite mari de rutil se gasesc in Sierra Leone, Arkansas sau Brazilia, dar in industrie se foloseste mai mult rutilul sintetic.

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *

TO TOP
X